• Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall
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Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall

Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall

Produktdetails:

Herkunftsort: China
Markenname: BonTek
Zertifizierung: ISO:9001
Modellnummer: Saphir (Al2O3)

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge: 5 Stücke
Preis: Verhandlungsfähig
Verpackung Informationen: Kassette, Glas, Filmpaket
Lieferzeit: 1-4 Wochen
Zahlungsbedingungen: T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 10000 Stücke/Monat
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Detailinformationen

Material: Sapphire Wafer Wachstums-Methode: Kyropoulos-Methode
Schmelzpunkt: °C 2040 Wärmeleitfähigkeit: 27,21 mit (m x K) bei 300 K
CTE: 5,6 x 10 -6 /K (parallele C-Achse) u. 5,0 (Senkrechtc-achse) x 10 -6 /K Härte: Knoop 2000 kg/mm 2 mit Zahnwalze 2000g
Spezifische Wärmekapazität: 419 J (Kilogramm x K) Dielektrisches Const.: 11,5 (parallele C-Achse) 9,4 (Senkrechtc-achse) an 1MHz
Hervorheben:

Sapphire Polished Wafer 3 Inch

,

High Resistance Sapphire Polished Wafer

,

C Plane Optical Crystal Sapphire Wafer

Produkt-Beschreibung

Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall

 

Saphir ist ein einzelner Kristall von Tonerde und ist das zweit-härteste Material in der Natur, nach Diamanten. Saphir hat die gute helle Beförderung, hochfest, Zusammenstoßwiderstand, Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Hochdruckwiderstand der Temperatur- und, biocompatibility, ist ein ideales Substratmaterial für die Produktion von optoelektronischen Geräten des Halbleiters, die elektrischen Eigenschaften des Saphirs, sie das Substratmaterial für die Produktion weißer und blauer LED werden zu lassen.

 

Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall 0Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall 1Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall 2

 

Einzelteil

3 Zoll C-Fläche (0001) 500μm Sapphire Wafers

Crystal Materials

99.999%, hoher Reinheitsgrad, monokristallines Al2O3

Grad

Haupt, Epi-bereit

Oberflächenorientierung

C-Fläche (0001)

C-Flächenauswinkel in Richtung zu M-Achse 0,2 +/- 0.1°

Durchmesser

76,2 Millimeter +/- 0,1 Millimeter

Stärke

μm 500 +/- μm 25

Flache hauptsächlichorientierung

Ein-Fläche (11-20) +/- 0.2°

Flache hauptsächlichlänge

22,0 Millimeter +/- 1,0 Millimeter

Simplex poliert

Front Surface

Epi-Polier, Ra < 0="">

(SSP)

Hintere Oberfläche

Feiner Boden, Ra = 0,8 μm zu μm 1,2

Doppeltes Seiten poliert

Front Surface

Epi-Polier, Ra < 0="">

(DSP)

Hintere Oberfläche

Epi-Polier, Ra < 0="">

TTV

< 15="">

BOGEN

< 15="">

VERZERRUNG

< 15="">

Säubern/verpackend

Säubernder und vakuumverpackender Klasse 100 Cleanroom,

25 Stücke in einer verpackenden oder Einzelstückverpacken Kassette.

 

Einzelteil

4 Zoll C-Fläche (0001) 650μm Sapphire Wafers

Crystal Materials

99.999%, hoher Reinheitsgrad, monokristallines Al2O3

Grad

Haupt, Epi-bereit

Oberflächenorientierung

C-Fläche (0001)

C-Flächenauswinkel in Richtung zu M-Achse 0,2 +/- 0.1°

Durchmesser

100,0 Millimeter +/- 0,1 Millimeter

Stärke

μm 650 +/- μm 25

Flache hauptsächlichorientierung

Ein-Fläche (11-20) +/- 0.2°

Flache hauptsächlichlänge

30,0 Millimeter +/- 1,0 Millimeter

Simplex poliert

Front Surface

Epi-Polier, Ra < 0="">

(SSP)

Hintere Oberfläche

Feiner Boden, Ra = 0,8 μm zu μm 1,2

Doppeltes Seiten poliert

Front Surface

Epi-Polier, Ra < 0="">

(DSP)

Hintere Oberfläche

Epi-Polier, Ra < 0="">

TTV

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BOGEN

< 20="">

VERZERRUNG

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Säubern/verpackend

Säubernder und vakuumverpackender Klasse 100 Cleanroom,

25 Stücke in einer verpackenden oder Einzelstückverpacken Kassette.

 

Einzelteil

6 Zoll C-Fläche (0001) 1300μm Sapphire Wafers

Crystal Materials

99.999%, hoher Reinheitsgrad, monokristallines Al2O3

Grad

Haupt, Epi-bereit

Oberflächenorientierung

C-Fläche (0001)

C-Flächenauswinkel in Richtung zu M-Achse 0,2 +/- 0.1°

Durchmesser

150,0 Millimeter +/- 0,2 Millimeter

Stärke

μm 1300 +/- μm 25

Flache hauptsächlichorientierung

Ein-Fläche (11-20) +/- 0.2°

Flache hauptsächlichlänge

47,0 Millimeter +/- 1,0 Millimeter

Simplex poliert

Front Surface

Epi-Polier, Ra < 0="">

(SSP)

Hintere Oberfläche

Feiner Boden, Ra = 0,8 μm zu μm 1,2

Doppeltes Seiten poliert

Front Surface

Epi-Polier, Ra < 0="">

(DSP)

Hintere Oberfläche

Epi-Polier, Ra < 0="">

TTV

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BOGEN

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VERZERRUNG

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Säubern/verpackend

Säubernder und vakuumverpackender Klasse 100 Cleanroom,

25 Stücke in einer verpackenden oder Einzelstückverpacken Kassette.

 

Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall 3

 

Wareneingangsprüfung

Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall 4

 

1. Das Produkt ist zerbrechlich. Wir haben es ausreichend verpackt und es zerbrechlich beschrifteten. Wir liefern durch ausgezeichnete inländische und internationale Speditionsgesellschaften, um Transportqualität sicherzustellen.

 

2. Nachdem Sie die Waren empfangen haben, behandeln Sie bitte sorgfältig und zu überprüfen ob der Umkarton in gutem Zustand ist. Öffnen Sie sorgfältig den Umkarton und überprüfen Sie, ob die verpackenden Kästen ausgerichtet sind. Machen Sie ein Foto, bevor Sie sie herausnehmen.

 

3. Öffnen Sie bitte die Vakuumverpackung in einem Reinraum, wenn die Produkte angewendet werden sollen.

 

4. Wenn den Produkten beschädigt während des Kuriers gefunden werden, machen Sie bitte ein Foto oder notieren Sie ein Video sofort. Nehmen Sie die schädigenden Produkte NICHT aus dem Verpackenkasten heraus! Treten Sie mit uns sofort in Verbindung und wir lösen das Problem gut.

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Ich bin daran interessiert Hoher Widerstand Sapphire Polished Wafer 3 Zoll-C-Flächen-optischer Kristall Könnten Sie mir weitere Details wie Typ, Größe, Menge, Material usw. senden?
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