• F-HUV Quarz-Borosilikatglaswafer 10 mm für MEMS und Halbleiter
F-HUV Quarz-Borosilikatglaswafer 10 mm für MEMS und Halbleiter

F-HUV Quarz-Borosilikatglaswafer 10 mm für MEMS und Halbleiter

Produktdetails:

Place of Origin: China
Markenname: BonTek
Zertifizierung: ISO:9001
Model Number: Glass substrates

Zahlung und Versand AGB:

Minimum Order Quantity: 5 pcs
Packaging Details: Cassette, Jar
Delivery Time: 2 weeks
Payment Terms: TT/in advance
Supply Ability: 100000/month
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Detailinformationen

Stärke: 0.1-10mm Marke: Corning, Schott, OHARA, FLH, China Glass
Primärebene: 16 ± 2 mm, 22 ± 2 mm, 32 ± 2 mm, 47,5 ± 2 mm, 57,5 ± 2 mm, Kerbe OHARA-Modell: SK1300, SK1310
COC: Pro Antrag Dichte: 2.20 g/cm3
Abnahmeprüfprotokoll: Pro Antrag Corning-Modell: C7980, C7979, Adler XG, Gorilla
Hervorheben:

F-HUV-Quarz-Borosilikatglaswafer

,

Borosilikatglaswafer für MEMS

,

10 mm geschmolzenes Siliziumwafer

Produkt-Beschreibung

Beschreibung des Produkts:

Fused Silica Wafer ist eine Art IC Silicon Wafer, auch bekannt als Aluminium-Silicat-Glas.Fusionierte Silica Wafer hat einen sehr niedrigen thermischen ExpansionskoeffizientenEs ist in der Halbleiter- und Optoelektronikindustrie weit verbreitet.

Fused Silica Wafer ist von bekannten Marken wie Corning, Schott, OHARA und FLH erhältlich.Die Dicke der Wafer beträgt 0.1 bis 10 mm, und die Oberflächenrauheit ist unter 1,0 nm.

Fused Silica Wafer weist außerdem eine hohe chemische und mechanische Stabilität sowie eine hohe Wärmeleitfähigkeit auf.mit einer Breite von mehr als 20 mm,, Linsen und Mikroskope.

 

Eigenschaften:

  • Produktbezeichnung: Silikonwafer aus geschmolzenem Silikon
  • Material: Aluminiumsilikatglas, hochreines geschmolzenes Silizium, Aluminiumsilikatglas
  • Beschichtung: AR-Beschichtung, HR-Beschichtung, V-Coat
  • Bevel: 0,25 mm x 45°
  • Durchmesser: 2-12 Zoll
  • Zertifikat: ISO9001, RoHS
  • Marke: Corning, Schott, OHARA, FLH, China Glass
 

Technische Parameter:

Material UV-geschmolzenes Silizium, geschmolzener Quarz (JGS1, JGS2, JGS3)
Spezifikation Einheit 3 ̊ 4 ¢ 5" 6" 8" 12"
Durchmesser (oder Quadrat) mm 76.2 100 125 150 200 300
Tol ((±) mm < 0,1 bis 0,25 mm
Die dünnste Dicke mm > 010 > 010 > 030 > 030 > 030 > 050
Primäre Wohnung mm 22 32.5 42.5 57.5/Kegel Schnitzel Schnitzel
LTV (5mm x 5mm) μm < 2 < 2 < 2 < 2 < 2 < 10
TTV μm < 8 < 10 < 15 < 20 < 30 < 30
Verbeugen μm ± 20 ± 25 ± 40 ± 40 ± 60 ± 60
Warpgeschwindigkeit μm < 30 < 40 < 50 < 50 < 60 < 60
PLTV ((< 0,5um) % ≥ 95% ((5 mm*5 mm)
Übertragbarkeit   UV, optisch, IR oder individuell
Runden der Kante mm Konform mit der SEMI-M1.2-Norm/Verweis auf IEC62276
Art der Oberfläche   Einseitig poliert/Doppelseitig poliert
Polierte Seite Ra m < 1,0 nm oder spezifisch nach Anforderung
Rückseite Kriterien μm Allgemein 0,2-0,5 μm oder nach Maß
Aussehen Verunreinigung Keine
Partikel> 0,3 μm <= 30
Sägezeichen, Streifen Keine
Schablone Keine
Risse, Sägemarken, Flecken Keine

 

Parameter Wert
Material Glas aus geschmolzenem Silizium
Bogen < 30 mm
Übertragung IR, sichtbar, DUV
Übertragungsbereich 00,17 bis 2,1 μm, 0,26 bis 2,1 μm .0185 bis 3,5 mm
Metallverunreinigungen < 0,2 ppm
Beschichtung AR, HR, V-Coat
TTV < 2m, < 5m
Durchmesser 2 bis 12 Zoll
Anwendung Halbleiter, MEMS, medizinische
Bescheinigung ISO9001 und RoHS
 

Anwendungen:

BonTek Fused Silica Wafers werden aus hochreinem Aluminiumsilicatglas hergestellt und sind mit einer ISO:9001 Zertifizierung versehen.und GorillaDie Übertragungsspanne dieser Wafer beträgt 0,17 bis 2,1 μm, 0,26 bis 2,1 μm und 0,185 bis 3,5 μm.und sie sind in Kassetten- und Glasverpackungen erhältlichBonTek bietet auch eine Reihe von Beschichtungen an, darunter AR, HR und V-Coat.BonTek Fused Silica Wafers sind eine ideale Wahl für Kunden, die nach hochwertigenDie Gesamtdickheitsvariation (TTV) dieser Wafer beträgt < 2um, < 5um, was sie für die Verwendung in einer Vielzahl von Anwendungen ideal macht.Für Kunden, die nach zuverlässigenBonTek ist die perfekte Wahl.

F-HUV Quarz-Borosilikatglaswafer 10 mm für MEMS und Halbleiter 0F-HUV Quarz-Borosilikatglaswafer 10 mm für MEMS und Halbleiter 1

 

Anpassung:

Zusammengefügte Dienstleistungen für geschmolzenes Siliziumwafer

BonTek bietet eine breite Palette von kundenspezifischen Dienstleistungen für Fused Silica Wafer, darunter IC Silicon Wafer, Aluminium Silicat Glas und Fused Silica Wafer.

Einzelheiten des Produkts:

  • Markenbezeichnung: BonTek
  • Modellnummer: Glasunterlage
  • Herkunftsort: China
  • Zertifizierung: ISO9001
  • Mindestbestellmenge: 5 Stück
  • Verpackung: Kassette, Glas
  • Lieferzeit: 2 Wochen
  • Zahlungsbedingungen: TT/Vorzahlung
  • Versorgungsfähigkeit: 100000/Monat
  • Inspektionsbericht: auf Anfrage
  • Schott Modell: Borofloat 33, B270, D263, Zerodur, MEMpax, BK7
  • Übertragungsbereich: 0,17 bis 2,1 um, 0,26 bis 2,1 um, .0185 bis 3,5 mm
  • Oberflächenrauheit: Ra<1,0 nm
  • OH-Gehalt: < 5 ppm, < 10 ppm, < 100 ppm
 

Unterstützung und Dienstleistungen:

Technische Unterstützung und Dienstleistungen für geschmolzenen Siliciumwafer

Wir bieten technische Unterstützung und Dienstleistungen für unsere Fused Silica Wafer, einschließlich:

  • technische Beratung vor dem Verkauf
  • Produktberatung im Verkauf
  • Technische Unterstützung nach dem Verkauf
  • Produktwartung
  • Benutzerhandbuch und Dokumentation

Unser technisches Team ist rund um die Uhr zur Verfügung, um Kunden zu unterstützen und zu beraten.und kann bei Bedarf Schulungs- und Aktualisierungsdienste anbieten.

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