• Saphir Al2O3 Kristall Substrat Ultrathin 2" 3" doppelseitig poliert für optische Zwecke
Saphir Al2O3 Kristall Substrat Ultrathin 2" 3" doppelseitig poliert für optische Zwecke

Saphir Al2O3 Kristall Substrat Ultrathin 2" 3" doppelseitig poliert für optische Zwecke

Produktdetails:

Herkunftsort: China
Markenname: CSIMC
Zertifizierung: ISO:9001
Modellnummer: Saphir (Al2O3)

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge: 5 Stück
Preis: Verhandlungsfähig
Verpackung Informationen: Kassette, Glas, Filmpaket
Lieferzeit: 1-4 Wochen
Zahlungsbedingungen: T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 10000 Stück/Monat
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Detailinformationen

Materieller Name: Saphir (Al2O3) Kristall Typ: Einzelner Kristall
Größe: 2" Reinheit: 99,999%
Oberflächenbearbeitung: DSP/SSP VIS-Bereich: 85%
Anwendung: Semicondutor-Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik Industrie: Geführtes, optisches Glas, eli-bereite Oblate
Hervorheben:

Doppelseitig poliertes Saphirkristallsubstrat

,

Optische Saphirkristallsubstrate

,

Ultrathin Saphirkristall Substrat

Produkt-Beschreibung

Saphir Al2O3 Kristall Substrat Ultrathin 2" 3" doppelseitig poliert für optische Zwecke

 

Entdecken Sie diehochwertigDiese hochwertigen Wafer werden aus echtem Saphirkristall geschnitten und bieten eine unvergleichliche Haltbarkeit und außergewöhnliche optische Eigenschaften.Ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich der OptikMit ihren einzigartigen Eigenschaften und ihrem atemberaubenden Aussehen sind Saphir-Kristallwafer die perfekte Wahl für diejenigen, die höchste Qualität und Leistung verlangen.Saphir-Kristallwafer sind sicherlich eine Aussage in jeder Anwendung zu machen.

 

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Die wichtigsten Spezifikationen für Saphirkristallsubstrate

 


Eigenschaften

 

 

Einheit


Spezifikation

 

2 Zoll Substrat

 

4 Zoll Substrat

 

6 Zoll Substrat

Durchmesser mm 500,8 ± 0.1 100 ± 0.1 150 ± 0.2
Stärke Ich weiß nicht. 430 ± 10 650 ± 10 1300 ± 20
Oberflächenorientierung der A-Ebene Grade 0° ± 0,1° 0° ± 0,1° 0° ± 0,1°
Oberflächenorientierung der M-Ebene Grade 0.2°±0.05° 0.2'± 0,05° 0.2°±0.05
Primärflächige Länge mm 16±1.0 30 ± 1 47.5±1 oder 25±1
Primäre flache Orientierung Grade
A-Ebene ± 0,25°

A-Ebene ± 0,25°

A-Ebene ± 0,25°
Rückseite Rauheit Ich weiß nicht. 1.0±0.2 1.0±0.2 1.0±0.2
Roughness der Vorderseite m ≤ 02 ≤ 02 ≤ 02
Waferrand Typ R oder T R oder T T
Gesamtdickenvariation,TTV Ich weiß nicht. ≤ 6 ≤ 6 ≤ 10
- Ich weiß nicht. Ich weiß nicht. ≤ 15 ≤ 15 ≤ 15
Bogen Ich weiß nicht. -10 ~ 0 -10 ~ 0 -10 ~ 0

 

Saphir Al2O3 Kristall Substrat Ultrathin 2" 3" doppelseitig poliert für optische Zwecke 4

 

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